发明名称 场效应功率晶体管的金属化结构
摘要 涉及一种基于在绝缘衬底(5)或本征的半导体衬底上的横向半导体层(3,4)的场效应功率晶体管(1)的金属化结构。所述横向半导体层(3,4)具有不同的带间隔,使得在所述横向半导体层的半导体边界层(6)中能够形成二维电子气。在源极电极接触面(7)与漏极电极接触面(8)之间或在源极(S)与漏极(D)之间施加电压的情况下电流能够流过横向半导体边界层(6)。能够通过栅极电极接触面(9)借助于栅极电压控制在源极电极接触面(7)与漏极电极接触面(8)之间的通道区域中的电流强度。
申请公布号 CN105448966A 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201510596082.5 申请日期 2015.09.17
申请人 英飞凌科技奥地利有限公司 发明人 G·普雷科托
分类号 H01L29/423(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I 主分类号 H01L29/423(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 郑立柱
主权项 一种基于在绝缘衬底(5)或本征或掺杂半导体衬底上的横向半导体层(3,4)的场效应功率晶体管(1)的金属化结构,其中所述横向半导体层(3,4)具有不同的带间隔,使得在所述横向半导体层的半导体边界层(6)中能够形成二维电子气,所述二维电子气在源极电极接触面(7)与漏极电极接触面(8)之间、在将电压施加在源极(S)与漏极(D)之间的情况下能够流过所述横向半导体的边界层,其中能够通过栅极电极接触面(9)借助于栅极电压来控制在所述源极电极接触面(7)与所述漏极电极接触面(8)之间的通道区域中的电流强度,其中在所述半导体层(3,4)的半导体表面(10)上的所述源极电极接触面(7)、所述漏极电极接触面(8)和所述栅极电极接触面(9)的金属化结构具有多个金属化层,在所述多个金属化层之间在横向方向上布置绝缘层,其特征在于,不仅针对源极电极金属化结构(7)还针对漏极电极金属化结构(8)中的一个,所述金属化层具有带有接触爪(12)的梳状结构(11),其中所述源极电极金属化结构(7)和所述漏极电极金属化结构(8)的所述接触爪(12)相互间隔地啮合并且每个接触爪(12)具有接触爪底(13)和接触爪尖(14),其中所述接触爪底(13)的宽度(b)大于所述接触爪尖(14)的宽度。
地址 奥地利菲拉赫