| 发明名称 | 显示基板的制备方法及显示基板、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种显示基板的制备方法及显示基板、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决将彩色滤光片制作在阵列基板上引起开口率下降的问题。其中所述显示基板的制备方法包括：在衬底基板上制备薄膜晶体管阵列，形成阵列基板；采用构图工艺在阵列基板的非像素区域上形成像素界定层，所述像素界定层内均匀分布有光致变色材料，在光照的作用下含有所述光致变色材料的像素界定层能够由透光变为遮光，且所述像素界定层由透光变为遮光不可逆。本发明提供的显示基板的制备方法用于将彩色滤光片制备在阵列基板上。 | ||
| 申请公布号 | CN105448825A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201610009787.7 | 申请日期 | 2016.01.07 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 李伟;宋泳锡;方金钢;孙宏达 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种显示基板的制备方法，包括在衬底基板上制备薄膜晶体管阵列，形成阵列基板，其特征在于，所述制备方法还包括：采用构图工艺在阵列基板的非像素区域上形成像素界定层，所述像素界定层内均匀分布有光致变色材料，在光照的作用下含有所述光致变色材料的像素界定层能够由透光变为遮光，且所述像素界定层由透光变为遮光不可逆。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||