发明名称 |
一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物的应用 |
摘要 |
一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物的应用,它涉及一种铕配合物的应用。本发明的目的是要解决现有稀土配合物与主体材料相容性差,易发生相分离而影响器件使用寿命,应用到发光器件中存在发光效率低的问题。结构为:<img file="DDA0000866887330000011.GIF" wi="685" he="575" />制备方法:使用β-二酮/无水乙醇混合溶液、氢氧化钠水溶液、三氯化铕水溶液和以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧/二氯甲烷溶液为原料制备以一种咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物;一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物作为发光层材料在电致发光器件中应用。本发明可获得一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物。 |
申请公布号 |
CN103980303B |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201410198216.3 |
申请日期 |
2014.05.12 |
申请人 |
黑龙江大学 |
发明人 |
许辉;王鉴哲 |
分类号 |
C07F5/00(2006.01)I;C07F9/6558(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I |
主分类号 |
C07F5/00(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 |
代理人 |
牟永林 |
主权项 |
一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物的应用,其特征在于一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物作为发光层材料在电致发光器件中应用;所述的一种以咔唑基团修饰的二苯并呋喃基双齿芳香膦氧铕配合物由二苯并呋喃基双齿芳香膦氧的衍生物形成的中性配体和β‑二酮配体络合铕离子形成,结构为:<img file="FDA0000866887310000011.GIF" wi="730" he="607" />其中,所述的Ar<sub>1</sub>为H时,Ar<sub>2</sub>为<img file="FDA0000866887310000015.GIF" wi="259" he="184" />或<img file="FDA0000866887310000013.GIF" wi="309" he="326" />或Ar<sub>1</sub>为<img file="FDA0000866887310000014.GIF" wi="654" he="326" />且Ar<sub>1</sub>与Ar<sub>2</sub>的结构式相同;所述的R<sub>1</sub>为苯基时,R<sub>2</sub>为苯基;所述的R<sub>1</sub>为CF<sub>3</sub>时,R<sub>2</sub>为α‑噻吩基。 |
地址 |
150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路74号 |