| 发明名称 | 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法，该研磨垫包含具限制层的基底层。本发明也提供一种研磨装置及制造研磨垫的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105437056A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410733404.1 | 申请日期 | 2014.12.04 |
| 申请人 | 三芳化学工业股份有限公司 | 发明人 | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;刘玮得;王俊达 |
| 分类号 | B24B37/24(2012.01)I;B24D18/00(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/24(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈小雯 |
| 主权项 | 一种研磨垫，其包含研磨层及基底层，该基底层包含：限制层，其包含多个第一定向纤维及多个第二定向纤维，其中所有该第一定向纤维都以一第一方向排列，所有该第二定向纤维都以一第二方向排列，且该第一方向与第二方向相交，并界定出一空间；及第一高分子弹性体，其填充于该第一方向与第二方向界定出的空间。 | ||
| 地址 | 中国台湾高雄市 | ||