发明名称 | 含有多个晶片样品的抛光样品及制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了含有多个晶片样品的抛光样品及其制备方法。该抛光样品可提高对晶片样品进行抛光的效率和成功率,并减少材料的损耗。该抛光样品包括:承载结构;在承载结构上的梳子型水平框架、多个晶片样品、水平辅助结构,所述梳子型水平框架包括由相邻梳齿定义的多个晶片样品格;在梳子型水平框架、多个晶片样品和水平辅助结构之间的填充物;以及在梳子型水平框架、多个晶片样品和水平辅助结构之上的表面保护附加结构,其中多个晶片样品夹在梳子型水平框架和水平辅助结构之间,且多个晶片样品中的每一个紧靠所述多个晶片样品格中对应一个的角落,梳子型水平框架和所述水平辅助结构的高度小于或等于所述多个晶片样品的高度。 | ||
申请公布号 | CN105445074A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
申请号 | CN201410264176.8 | 申请日期 | 2014.06.13 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 虞勤琴;方君;朱敏;辛亚亚 |
分类号 | G01N1/32(2006.01)I | 主分类号 | G01N1/32(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 张东梅 |
主权项 | 一种含有多个晶片样品的抛光样品,包括:承载结构;在所述承载结构上的梳子型水平框架、多个晶片样品、水平辅助结构,所述梳子型水平框架包括由相邻梳齿定义的多个晶片样品格;在所述梳子型水平框架、多个晶片样品和水平辅助结构之间的填充物;以及在所述梳子型水平框架、多个晶片样品和水平辅助结构之上的表面保护附加结构,其中所述多个晶片样品夹在所述梳子型水平框架和所述水平辅助结构之间,且所述多个晶片样品中的每一个紧靠所述多个晶片样品格中对应一个的角落,所述梳子型水平框架和所述水平辅助结构的高度小于或等于所述多个晶片样品的高度。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |