| 发明名称 |
ION ASSISTED DEPOSITION FOR RARE-EARTH OXIDE BASED THIN FILM COATINGS ON PROCESS RINGS |
| 摘要 |
물품을 제작하는 방법은 에치 반응기용 고리를 제공하는 것을 포함한다. 이후에, 이온 보조 증착(IAD)이 고리의 적어도 하나의 표면 상에 보호층을 증착시키기 위해 수행되며, 여기서, 보호층은 300 ㎛ 미만의 두께 및 6 마이크로인치 미만의 평균 표면 거칠기를 갖는 플라즈마 내성 희토류 옥사이드 막이다. |
| 申请公布号 |
KR20160034298(A) |
申请公布日期 |
2016.03.29 |
| 申请号 |
KR20167001521 |
申请日期 |
2014.07.15 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
SUN JENNIFER Y.;KANUNGO BIRAJA P.;FIROUZDOR VAHID;ZHANG YING |
| 分类号 |
H01J37/32;C23C14/00;C23C14/08;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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