| 摘要 |
기판 프로세싱 동안에 플라즈마를 자동으로 특성화하기 위한 방법이 제공된다. 그 방법은, 적어도 전류 및 전압에 관한 데이터를 포함하는 프로세스 데이터의 세트를 수집하는 단계를 포함한다. 그 방법은 또한, 프로세스 데이터의 세트에 대한 관련성 범위를 식별하는 단계를 포함하며, 관련성 범위는 프로세스 데이터의 세트의 서브세트를 포함한다. 그 방법은 또한, 시드 값들의 세트를 결정하는 단계를 포함한다. 그 방법은 또한, 관련성 범위 및 시드 값들의 세트를 채용하여 커브-피팅을 수행하는 단계를 포함하며, 커브-피팅은 플라즈마가 자동으로 특성화될 수 있게 한다. |
