PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

본 발명은 (A) 페놀 골격을 갖는 반복 단위 및 산의 작용에 의해 분해되어 알코올성 히드록시기를 생성할 수 있는 기를 갖는 반복 단위를 함유하는 수지를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 이용하여 필름을 형성하는 공정, (B) 상기 필름을 노광하는 공정, 및 (C) 상기 노광 필름을 유기용제 함유 현상액을 이용하여 현상하는 공정을 포함하는 패턴 형성 방법을 제공한다.