| 摘要 |
弁は、弁キャップを備え、弁キャップはこれを貫通する複数のプロセス導管を有し、複数のプロセス導管のそれぞれは、弁キャップ接合面においてプロセスポートで終端する。また、弁は、弁キャップ接合面に対向する弁本体接合面を定める弁本体と、弁キャップ接合面と弁本体接合面との間にプロセスポートを横切って位置決めされたダイヤフラムと、弁キャップ及び弁本体の一方を通って設けられたパージラインとを備える。パージラインは、入口及び出口を有する。弁は、弁キャップに配置された密封組立体をさらに備える。密封組立体は、ダイヤフラムを通って漏れた流体を封鎖するように構成及び位置決めされ、ダイヤフラムを通って漏れた流体は、弁のパージラインの出口を経由して排出されるようになっている。弁を含むクロマトグラフシステム、及びこのクロマトグラフシステムを作動させる方法も提供される。【選択図】 図９Ａ |
