发明名称 Liquid supplying unit and Apparatus for treating substrate with the unit
摘要 본 발명의 실시예는 액을 공급하는 액 공급 유닛 및 기판 처리 장치를 제공한다. 액 공급 유닛은 노즐에 처리액을 공급하는 유닛으로, 내부에 처리액을 저장하는 저장 공간을 가지며, 상면이 개방된 보틀 및 상기 상면을 개폐하는 밸브 어셈블리를 포함하되, 상기 밸브 어셈블리는 내부에 메인 유로 및 상기 메인 유로에 연결되는 공급 유로가 형성되는 바디, 상기 메인 유로에 위치되는 구동축, 그리고 상기 구동축을 제1위치 및 제2위치로 이동시키는 구동기를 포함하되, 상기 제1위치는 상기 구동축이 상기 공급 유로를 차단하는 위치이고, 상기 제2위치는 상기 공급 유로를 개방하는 위치이다. 보틀을 개폐하는 밸브 어셈블리는 밸브 기능을 가지며, 보틀 내에 처리액의 유입 및 유출을 조절할 수 있다.
申请公布号 KR101605718(B1) 申请公布日期 2016.03.24
申请号 KR20140098538 申请日期 2014.07.31
申请人 세메스 주식회사 发明人 김정선
分类号 H01L21/02;H01L21/08 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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