| 发明名称 | 等离子体处理装置用的部件和部件的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于抑制从氟化钇制的喷镀被膜产生微粒。本发明的解决方法在于提供一种在等离子体处理装置内被暴露于等离子体中的部件。该部件具有基材和被膜。基材例如为铝制或铝合金制。可以在基材的表面形成耐酸铝膜。被膜通过在包括基材或设置于该基材上的层的基底的表面上喷镀氟化钇而形成。该部件的被膜内的气孔率为4％以下，该被膜的表面的算术平均粗糙度(Ra)为4.5μm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN105428195A | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201510578768.1 | 申请日期 | 2015.09.11 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;东华隆株式会社 | 发明人 | 长山将之;三桥康至;虻川志向;永井正也;金泽义典;仁矢铁也 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J9/00(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳;程采 |
| 主权项 | 一种等离子体处理装置用的部件，其特征在于，具备：基材；和被膜，其通过在包括所述基材或者设置于该基材上的层的基底的表面喷镀氟化钇而形成，所述被膜内的气孔率为4％以下，所述被膜的表面的算术平均粗糙度为4.5μm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||