| 摘要 |
고감도, 고해상성, 높은 경시 안정성, 스컴의 발생이 적고 및 양호한 드라이에칭 내성을 동시에 만족하는 패턴을 형성할 수 있는 감활성 광선성 또는 감방사선성 조성물, 그것을 사용한 레지스트막, 레지스트 도포 마스크 블랭크스, 레지스트 패턴 형성 방법, 및 포토마스크를 제공한다. (A) 하기 일반식 (αI) 또는 (I)로 나타내어지는 화합물, 및 (B) 활성 광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물을 함유하는 감활성 광선성 또는 감방사선성 조성물.상기 일반식 (αI) 및 (I) 중, R∼R의 각각은 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. A는 1가의 유기기를 나타낸다. |
