发明名称 |
用于解决具有改良的流动均匀性/气体传导性的可变的处理容积的对称腔室主体设计架构 |
摘要 |
本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室,以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。 |
申请公布号 |
CN105431924A |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201580001474.0 |
申请日期 |
2015.03.13 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
A·恩古耶;T·K·赵;Y·萨罗德维舍瓦纳斯 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
姬利永 |
主权项 |
一种用于处理基板的装置,包括:处理模块,所述处理模块封围处理区域;流动模块,所述流动模块连接至所述处理模块,其中所述流动模块限定排空通道和大气容积,并且所述排空通道连接所述处理模块的处理区域以及附连至所述流动模块的排放系统;以及基板支撑组件,所述基板支撑组件包括支撑板和轴,其中所述支撑板被设置于所述处理区域中,以在所述处理区域中支撑基板,并且所述轴从所述处理模块的处理区域延伸至所述流动模块的大气容积。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |