发明名称 一种电阻栅薄膜晶体管及其制备方法
摘要 本发明公开了一种电阻栅薄膜晶体管及其制备方法。电阻栅薄膜晶体管包括衬底、过渡层、栅端电极、电阻栅薄膜层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源漏电极;所述电阻栅薄膜层位于栅端电极与绝缘栅介质层之间;所述栅端电极位于电阻栅薄膜层下方;所述源漏极在半导体有源层上,且源漏电极两端与两个栅端电极存在交叠区域。本发明可通过两个栅端电极偏压有效调控器件处于不截止、遥截止或锐截止转移特性,可根据实际应用需要获得所需的阈值电压、关态电流和跨导值,两个栅端电极可同时作为控制栅和信号栅使用,使电路得到简化,从而有效扩大了薄膜晶体管的应用范围,能有效地解决阈值电压漂移、大信号堵塞、自动增益控制动态范围窄等问题。
申请公布号 CN105428419A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201510981786.4 申请日期 2015.12.22
申请人 华南理工大学 发明人 刘玉荣;姚若河;耿魁伟;韦岗
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/34(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 何淑珍
主权项 一种电阻栅薄膜晶体管,其特征在于,由下至上依次包括衬底、过渡层、栅端电极、电阻栅薄膜层、绝缘栅介质层、半导体有源层、源漏电极,所述电阻栅薄膜层(4)位于两栅端电极 (301和302) 与绝缘栅介质层(5)之间,电阻栅薄膜层的电阻率低于半导体有源层;所述两栅端电极位于电阻栅薄膜层下方,其连线方向与沟道方向垂直,其结构和功能上是等效的;所述源电极(701)和漏电极(702)制作在垂直于两栅端电极连线的方向,使得源漏电极两端与两个栅端电极构成类#型交叠区域,且源漏电极长度即沟道宽度小于两栅端电极宽度与两栅端电极间距的总和。
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