发明名称 场效应晶体管和用于生产场效应晶体管的方法
摘要 为了提供一种场效应晶体管,包含:栅极电极,配置为施加栅极电压;源极电极和漏极电极,两者都配置为输出电流;有源层,由n型氧化物半导体形成,被提供为与源极电极和漏极电极接触;以及栅极绝缘层,被提供在栅极电极和有源层之间;其中,源极电极和漏极电极的功函数是4.90eV或更大,并且其中,n型氧化物半导体的电子载流子密度为4.0×10<sup>17</sup>cm<sup>-3</sup>或更大。
申请公布号 CN105431930A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201480043179.7 申请日期 2014.07.25
申请人 株式会社理光 发明人 松本真二;植田尚之;中村有希;高田美树子;曾根雄司;早乙女辽一;新江定宪;安部由希子
分类号 H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01L21/336(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 安之斐
主权项 一种场效应晶体管,包括:栅极电极,配置为施加栅极电压;源极电极和漏极电极,两者都被配置为输出电流;有源层,由n型氧化物半导体形成,被提供为与源极电极和漏极电极接触;以及栅极绝缘层,被提供在栅极电极和有源层之间;其中,源极电极和漏极电极的功函数是4.90eV或更大,并且其中,n型氧化物半导体的电子载流子密度为4.0×10<sup>17</sup>cm<sup>‑3</sup>或更大。
地址 日本东京都