发明名称 带有冷却通道的构件及制造方法
摘要 本发明涉及带有冷却通道的构件及制造方法。提供了一种制造构件(100)的方法。该方法包括在衬底(110)的外表面(112)中形成一个或多个凹槽(132)。各个凹槽(132)至少部分地沿着衬底(110)的表面(112)延伸,并具有基部(134)、顶部(136)以及至少一个排出点(170)。该方法进一步包括形成邻近各个凹槽(132)的排出点(170)的流出区域(172),以及在衬底(110)的表面(112)的至少一部分上面设置涂覆物(150)。凹槽(一个或多个)(132)和涂覆物(150)限定用于冷却构件(100)的一个或多个通道(130)。还提供了一种带有冷却通道(130)的构件(100)。
申请公布号 CN102678199B 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201210116096.9 申请日期 2012.02.14
申请人 通用电气公司 发明人 R·S·班克
分类号 F01D25/12(2006.01)I 主分类号 F01D25/12(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李强;谭祐祥
主权项 一种制造带有通道的构件的方法,所述方法包括:在衬底的外表面中形成一个或多个凹槽,其中,所述一个或多个凹槽中各个凹槽至少部分地沿着所述衬底的所述外表面延伸,并具有基部、顶部以及至少一个排出点;形成邻近所述一个或多个凹槽中各个凹槽的所述排出点的流出区域,使得对于各个凹槽形成至少一个流出区域,以及使得各个流出区域从相应的凹槽的所述排出点延伸离开;以及在所述衬底的所述外表面的至少一部分上面设置涂覆物,其中,所述一个或多个凹槽和所述涂覆物限定用于冷却所述构件的一个或多个通道,其中所述涂覆物不跨接所述各个流出区域,使得所述各个流出区域为所述一个或多个凹槽中所述相应的凹槽形成膜孔。
地址 美国纽约州