| 发明名称 | 含荧光体的识别物体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的含荧光体的识别物体，基材的表面整体或一部分由含荧光体的硅酮薄层覆盖，所述荧光体在可视光线的照射下不发光，在紫外线或黑光的照射下发光，由此具有识别性。本发明的含荧光体的识别物体的制造方法，在将基材成形后或成形的同时，使其与含荧光体的薄层形成用硅酮组合物接触，然后进行加热。由此，提供可以适用于硅酮薄膜，与基材的粘接性优异，而且，基材本来的特性不受标记影响的含荧光体的识别物体及其制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105431894A | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201580001096.6 | 申请日期 | 2015.03.18 |
| 申请人 | 富士高分子工业株式会社 | 发明人 | 猿山俊夫;后藤诚;片石拓海 |
| 分类号 | G09F13/20(2006.01)I;B42D25/36(2006.01)I;C09K11/08(2006.01)I;G09F3/02(2006.01)I | 主分类号 | G09F13/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人 | 龚敏;王刚 |
| 主权项 | 一种含荧光体的识别物体，其特征在于，基材的表面整体或一部分由含荧光体的硅酮薄层覆盖，所述荧光体在可视光线的照射下不发光，在紫外线或黑光的照射下发光，由此具有识别性。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县名古屋市中区千代田五丁目21番11号 | ||