发明名称 |
一种去除焊盘缺陷的方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种去除焊盘缺陷的方法,在利用不含有氢氟酸的DSP溶液清洗焊盘后,对该焊盘进行冲洗工艺,并循环多次进行该清洗和冲洗工艺以去除焊盘缺陷,由于DSP溶液中不含有氢氟酸,从而可以减少去除焊盘缺陷过程中的焊盘损伤,减少凹点缺陷;且由于采用DSP高低转速搭配能够增加绕流以增加化学清洗能力,采用多次循环清洗、冲洗的方式可以提高DSP溶液中硫酸和双氧水的作用,从而可以有效去除焊盘缺陷;进而可以减少报废,提升良率,节约返工成本。 |
申请公布号 |
CN105428211A |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201510762520.0 |
申请日期 |
2015.11.10 |
申请人 |
武汉新芯集成电路制造有限公司 |
发明人 |
胡海波;汪亚军 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
俞涤炯 |
主权项 |
一种去除焊盘缺陷的方法,其特征在于,包括:步骤S1,提供一形成有焊盘的衬底,且所述焊盘上形成有结晶缺陷;步骤S2,利用不含有氢氟酸的DSP溶液清洗所述衬底后,对所述衬底进行冲洗工艺;步骤S3,重复进行所述步骤S2多次,以去除所述结晶缺陷。 |
地址 |
430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号 |