基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法

摘要

本发明提供一种基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法，该基底处理装置，将反射性光掩膜图案像投影曝光于感应基底，具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分照明区域产生的反射光束往感应基底投射；光学构件包含：为对照明区域落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为照明光的源的光源像，经由投影光学系统的一部分光路与光学构件使来自光源像的照明光往所述照明区域，且将与光源像在共轭面形成于光学构件的反射或通过部分的位置或近旁。本发明能忠实曝光较大光掩膜图案。

主权项

一种基底处理装置，是将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其特征在于，其具备：光掩膜保持构件，保持所述光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于所述光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往所述感应基底投射，借此将所述光掩膜图案一部分的像成像于所述感应基底；光学构件，包含：为了对所述照明区域进行落斜照明而配置于所述投影光学系统的光路内、使往所述照明区域的照明光与从所述照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为所述照明光的源的光源像，经由所述投影光学系统的一部分光路与所述光学构件使来自所述光源像的照明光往所述照明区域，且将与所述光源像在光学上共轭的共轭面形成于所述光学构件的反射部分或通过部分的位置或近旁。