发明名称 发光二极管及其制作方法
摘要 本发明提供一种发光强度均匀的二极管结构设计,该外延片结构由下至上包括:衬底,N型层,多量子阱有源区,P型层;随后进行芯片工艺制备,在所述N型层中临近N电极位置设置电流调整结构,该电流调整结构增加所述N型层中临近N电极位置区域的电阻值,通过控制电流调整结构在N型层汇总占用体积、横向和纵向蚀刻深度,降低了临近N电极位置的载流子聚集效应,使更多的载流子流向靠近P电极位置,增加N型层中流向靠近P电极位置电子数量,使同一LED芯片不同位置发光更加均匀;同时由于载流子聚集效应得到缓解,LED可靠性得到进一步提升。
申请公布号 CN105428483A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201510958441.7 申请日期 2015.12.21
申请人 天津三安光电有限公司 发明人 舒立明;王良均;刘晓峰;叶大千;吴超瑜;王笃祥
分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种发光二极管,包括:衬底,依次形成于该衬底上的N型层、多量子阱有源区、P型层,分别形成于该P型层、N型层表面上的P电极与N电极,其特征在于:在所述N型层中临近N电极位置设置电流调整结构,该电流调整结构增加所述N型层中临近N电极位置区域的电阻值。
地址 300384 天津市西青区华苑产业区海泰南道20号