发明名称 硅锗异质结纳米线阵列作为敏感元件的应变计及制备方法
摘要 本发明公开了一种硅锗异质结纳米线阵列作为敏感元件的应变计,该应变计包括绝缘体上硅圆片,以及覆盖在绝缘体上硅圆片上的氧化层,绝缘体上硅圆片上开有深槽,且深槽的侧壁和底面均设有氧化层,在深槽相对的两个侧壁上分别设有一个生长纳米线的窗口,该窗口上设有锡纳米颗粒催化剂层,锡纳米颗粒催化剂层上生长硅锗异质结纳米线阵列,两个生长纳米线且相对的窗口通过该硅锗异质结纳米线阵列相连接。该应变计采用硅锗异质结纳米线阵列作为敏感元件,提高敏感源灵敏度,同时,还公开该应变计的制备方法,该制备方法简单,且与现有的集成电路工艺具有兼容性。
申请公布号 CN103673864B 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201310609962.2 申请日期 2013.11.27
申请人 东南大学 发明人 雷双瑛;李峄;陈洁;于虹;黄庆安
分类号 G01B7/16(2006.01)I;B82Y15/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 G01B7/16(2006.01)I
代理机构 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人 杨晓玲
主权项 一种硅锗异质结纳米线阵列作为敏感元件的应变计,其特征在于,该应变计包括绝缘体上硅圆片(1),以及覆盖在绝缘体上硅圆片(1)上的氧化层(9),绝缘体上硅圆片(1)上开有深槽,且深槽的侧壁和底面均设有氧化层,在深槽相对的两个侧壁上分别设有一个生长纳米线的窗口(2),该窗口(2)上设有锡纳米颗粒催化剂层(6),锡纳米颗粒催化剂层(6)上生长硅锗异质结纳米线阵列(5),两个生长纳米线且相对的窗口(2)通过该硅锗异质结纳米线阵列(5)相连接。
地址 211189 江苏省南京市江宁区东南大学路2号