发明名称 |
响应度空间可变PIN光电探测器及其制作方法 |
摘要 |
为解决现有技术PIN光电探测器存在的在目标距离较近时,输出会产生饱和,从而影响接收系统的动态响应范围等问题,本发明提出一种响应度空间可变PIN光电探测器及其制作方法,在长条矩形I型硅衬底SiO<sub>2</sub>绝缘层上设置长条矩形光敏面,在光敏面增透膜上设置有一系列从长条矩形中心到两边宽度逐渐变窄的长条形Au膜,并由长条形Au膜的间隙构成光敏区;所述Au膜为蒸镀膜,所述长条形Au膜采用光刻蚀方法制备,所述光敏区的宽度从长条矩形中心到两边宽度逐渐变宽。本发明的有益技术效果是能够使探测器能在光斑信号面积较大且强度弱和光斑信号面积较小且强度高都具有适宜的输出,不会对接收系统的动态响应范围造成影响。 |
申请公布号 |
CN103646985B |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201310729364.9 |
申请日期 |
2013.12.26 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
发明人 |
鲁卿;向勇军;谭千里;孙诗;曹飞 |
分类号 |
H01L31/105(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/105(2006.01)I |
代理机构 |
重庆辉腾律师事务所 50215 |
代理人 |
侯懋琪;寸南华 |
主权项 |
一种响应度空间可变PIN光电探测器,其特征在于,在长条矩形I型硅衬底SiO<sub>2</sub>绝缘层的长条矩形开口区域设置光敏面,在光敏面增透膜上设置有一系列从长条矩形中心到两边宽度逐渐变窄的长条形Au膜,并由长条形Au膜的间隙构成光敏区;所述Au膜为蒸镀膜,所述长条形Au膜采用光刻蚀方法制备,所述光敏区的宽度从长条矩形中心到两边逐渐变宽;所述光敏面由若干个光敏区组成。 |
地址 |
400060 重庆市南岸区花园路14号电子44所 |