发明名称 垂直紫外线发光装置及其制造方法
摘要 本发明公开了一种垂直紫外线发光装置及其制造方法。所述垂直紫外线发光装置包括:包括A1的p型半导体层;设置在p型半导体层上且包括Al的有源层;设置在有源层上且包括Al的n型半导体层;设置在n型半导体层上且掺杂有n型的金属接触层;以及形成在金属接触层上的衬垫,其中金属接触层具有比n型半导体层的Al含量低的Al含量。根据本发明的示例性实施例,金属接触层形成在n型半导体层上以允许金属接触层而不是包括AlGaN的n型半导体层充当接触层,从而有效地提高了垂直紫外线发光装置的n型接触特性。
申请公布号 CN105428487A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201510561176.9 申请日期 2015.09.06
申请人 首尔伟傲世有限公司 发明人 黄晶焕;韩昌锡;张彰槿;金华睦
分类号 H01L33/36(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I;H01L33/30(2010.01)I 主分类号 H01L33/36(2010.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 马翠平;王秀君
主权项 一种垂直紫外线发光装置,所述垂直紫外线发光装置包括:p型半导体层,包括Al;有源层,设置在所述p型半导体层上且包括所述Al;n型半导体层,设置在所述有源层上且包括所述Al;金属接触层,设置在所述n型半导体层上且掺杂有n型;以及衬垫,形成于所述金属接触层上,其中所述金属接触层具有比所述n型半导体层的Al含量低的Al含量。
地址 韩国京畿道安山市
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