| 发明名称 | 一种在曝光光刻中使用的立体模板及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种在曝光光刻中使用的立体模板及其制备方法，其中所述立体模板从下到上依次包括基片、在基片上设置的第一层膜和第二层膜，所述第二层膜表面上设置有由一种诱导图案加热获得的浮雕型立体图案。其中所述立体图案能在不同的曝光距离上形成3个或以上数量的不同像模式。 | ||
| 申请公布号 | CN105425547A | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201610018030.4 | 申请日期 | 2016.01.12 |
| 申请人 | 苏州华维纳纳米科技有限公司 | 发明人 | 刘前 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州慧通知识产权代理事务所(普通合伙) 32239 | 代理人 | 丁秀华 |
| 主权项 | 一种在曝光光刻中使用的立体模板；其特征在于，其包括基片，其中所述基片上从下到上依次设置有第一层膜和第二层膜，所述第二层膜表面上设置有由一种诱导图案加热获得的浮雕型立体图案，其中所述立体图案能在不同的曝光距离上形成3个或以上数量不同的像模式。 | ||
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A4-107 | ||