发明名称 |
上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法 |
摘要 |
本发明提供具有与以往制品同等以上的成膜性、折射率、经时稳定性以及安全性的上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法。一种上表面抗反射膜形成用组合物,其特征在于包含由下述通式(1)表示的重均分子量为300,000~800,000的含氟聚合物、碳原子数10~18的烷基磺酸以及溶剂,-Ax-By- (1)式中,A为由下述通式(A)表示的重复单元,<img file="DDA0000393943040000011.GIF" wi="603" he="322" />式中,R为碳原子数1~40的含氟亚烷基或者碳原子数2~100的具有醚键的含氟亚烷基,B是可与A结合而形成共聚物的重复单元,x以及y是表示聚合比的数,并且x不为0,A和B可无规地结合,也可形成嵌段。 |
申请公布号 |
CN103460136B |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201280017938.3 |
申请日期 |
2012.04.11 |
申请人 |
默克专利有限公司 |
发明人 |
片山朋英;佐尾高步 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
一种上表面抗反射膜形成用组合物,其为在使用光形成图案的光刻中使用的上表面抗反射膜形成用组合物,其特征在于,所述上表面抗反射膜形成用组合物包含由下述通式(1)表示的重均分子量为300,000~800,000的含氟聚合物、碳原子数10~18的烷基磺酸以及溶剂,‑Ax‑By‑ (1)式中,A是由下述通式(A)表示的重复单元,<img file="FDA0000804851300000011.GIF" wi="649" he="354" />式中,R为碳原子数1~40的含氟亚烷基或者碳原子数2~100的具有醚键的含氟亚烷基,B是能与A结合而形成共聚物的重复单元,x以及y是表示聚合比的数,并且x不为0,A和B可无规地结合,也可形成嵌段。 |
地址 |
德国达姆施塔特 |