发明名称 制造用于EUV光刻法的掺杂钛的石英玻璃的方法和据此制成的坯料
摘要 存在于掺杂Ti的石英玻璃中的Ti<sup>3+</sup>离子导致该玻璃的棕色着色,由此使得玻璃的检测变得困难。已知通过足够高含量的OH基团确保Ti-掺杂石英玻璃中的Ti<sup>3+</sup>离子减少,有利于Ti<sup>4+</sup>离子,由此发生伴随着氢向外扩散的内氧化,或在低OH基团含量时,在玻璃化前需要氧气处理,所述氧气处理需要高处理温度和专用耐腐蚀炉并因此昂贵。为提供成本有利的生产在小于120重量ppm的羟基含量的同时在400纳米至1000纳米波长范围内具有至少70%的内透射率(10毫米样品厚度)的Ti-掺杂石英玻璃的方法,由基于火焰水解灰料沉积法出发本发明建议,在玻璃化之前对所述TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>灰料体施以包括用氮氧化物处理的调整处理。如此制得的Ti-掺杂石英玻璃的特征为Ti<sup>3+</sup>/Ti<sup>4+</sup>的比率<u>&lt;</u>5x10<sup>-4</sup>。
申请公布号 CN105431388A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201480045062.2 申请日期 2014.07.22
申请人 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 发明人 S.奥赫斯;K.贝克;S.托马斯
分类号 C03B19/14(2006.01)I;C03B20/00(2006.01)I;C03C3/06(2006.01)I 主分类号 C03B19/14(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张华;石克虎
主权项 制造用于EUV光刻法的由高硅酸含量的掺杂钛的玻璃制成的坯料的方法,所述坯料在10毫米样品厚度下具有在400纳米至1000纳米波长范围内至少70%的内透射率,所述方法包括下列方法步骤:(a) 借助含硅和钛的起始物质的火焰水解制造TiO<sub>2</sub>‑SiO<sub>2</sub>灰料体,(b) 干燥所述灰料体以产生小于120重量ppm的平均羟基含量,(c) 将所述灰料体玻璃化,形成由高硅酸含量的掺杂钛的玻璃制成的坯料,其特征在于,在根据方法步骤(c)的玻璃化之前,对所述TiO<sub>2</sub>‑SiO<sub>2</sub>灰料体施以包括用氮氧化物处理的调整处理。
地址 德国哈瑙