| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 처리 공간을 가지는 챔버와 상기 챔버 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛과 상기 챔버 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛과 그리고 상기 공정 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 소스를 포함하되 상기 플라즈마 소스는 전력 소스와 전극과 상기 전력 소스로부터 상기 전극으로 전력을 인가하는 피더를 포함하되, 상기 피더는 서로 상이한 재질로 제공된 복수의 레이어들을 포함하며, 상기 레이어들은 어느 하나의 레이어가 다른 레이어를 감싸며 제공될 수 있다. |
