发明名称 |
193nmのレーザー検査システム |
摘要 |
約193.4nmの出力波長を生成するためのレーザーは、基本波レーザーと、光パラメトリック発生器と、第4高調波発生器と、周波数混合モジュールと、を備える。光パラメトリック発生器は、基本波レーザーに結合され、ダウンコンバートされた信号を生成することができる。第4高調波発生器は、光パラメトリック発生器または基本波レーザーに結合することができ、第4高調波を生成することができる。周波数混合モジュールは、光パラメトリック発生器及び第4高調波発生器に結合され、第4高調波とダウンコンバートされた信号の周波数の2倍との合計に等しい周波数でレーザー出力を生成することができる。 |
申请公布号 |
JP2016508620(A) |
申请公布日期 |
2016.03.22 |
申请号 |
JP20150555299 |
申请日期 |
2014.01.24 |
申请人 |
ケーエルエー−テンカー コーポレイション |
发明人 |
チュワーン ユン−ホ アレックス;アームストロング ジェイ ジョセフ;ドリビンスキー ウラジミール;デン ユジュン;フィールデン ジョン |
分类号 |
G02F1/37;G02F1/39;H01S3/00;H01S3/067;H01S3/10 |
主分类号 |
G02F1/37 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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