发明名称 193nmのレーザー検査システム
摘要 約193.4nmの出力波長を生成するためのレーザーは、基本波レーザーと、光パラメトリック発生器と、第4高調波発生器と、周波数混合モジュールと、を備える。光パラメトリック発生器は、基本波レーザーに結合され、ダウンコンバートされた信号を生成することができる。第4高調波発生器は、光パラメトリック発生器または基本波レーザーに結合することができ、第4高調波を生成することができる。周波数混合モジュールは、光パラメトリック発生器及び第4高調波発生器に結合され、第4高調波とダウンコンバートされた信号の周波数の2倍との合計に等しい周波数でレーザー出力を生成することができる。
申请公布号 JP2016508620(A) 申请公布日期 2016.03.22
申请号 JP20150555299 申请日期 2014.01.24
申请人 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 发明人 チュワーン ユン−ホ アレックス;アームストロング ジェイ ジョセフ;ドリビンスキー ウラジミール;デン ユジュン;フィールデン ジョン
分类号 G02F1/37;G02F1/39;H01S3/00;H01S3/067;H01S3/10 主分类号 G02F1/37
代理机构 代理人
主权项
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