发明名称 EXPOSURE METHOD EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
摘要 기판(PT)의 노광방법은 각각 확대배율을 가지고 병설된 투영광학계(PL1 내지 PL4)의 각각에 대하여, 소정방향으로 상기 투영광학계의 노광폭을 상기 확대배율로 나누어 얻어지는 폭보다 크고 이 투영광학계의 배치간격보다 작은 영역폭을 가지는 패턴영역(A1 내지 A4)을 배치하는 패턴배치공정; 상기 패턴영역마다의 제1 부분패턴영역(A11 내지 A41)에 형성된 제1 패턴의 상기 투영광학계에 의한 투영상 및 이 제1 부분패턴영역에 대해서 적어도 일부 영역이 상기 패턴영역 내에서 상기 소정방향으로 다른 제2 부분패턴영역(A12 내지 A42)에 형성된 제2 패턴의 상기 투영광학계에 의한 투영상을 기판상에 순차전사하는 노광공정을 포함한다. 어떤 이음오차의 발생을 억제하여 전사 정밀도를 향상한다.
申请公布号 KR101605567(B1) 申请公布日期 2016.03.22
申请号 KR20107008137 申请日期 2008.11.17
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 나라 게이
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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