发明名称 ゼータ電位制御法を用いた処理方法
摘要 【課題】本発明は、分散溶液のゼータ電位を制御する新たな方法を開発することを目的とする。【解決手段】本発明は、溶媒中に粒子が分散した分散溶液のゼータ電位を制御するゼータ電位制御方法において、20Hz〜1kHzの周波数で変動する電界を分散溶液に印加することで、分散溶液のゼータ電位の絶対値を高めることを特徴とするゼータ電位制御方法を提供する。また、本発明は、このゼータ電位制御方法を応用した反応方法、処理方法、洗浄方法、研磨方法、分散溶液製造方法、ゼータ電位制御装置、及び研磨装置を提供する。【選択図】図1
申请公布号 JP5891320(B1) 申请公布日期 2016.03.22
申请号 JP20150025880 申请日期 2015.02.12
申请人 秋田県;国立大学法人秋田大学 发明人 赤上 陽一;中村 竜太;久住 孝幸;池田 洋;佐藤 安弘;南谷 佳弘;南條 博
分类号 B24B37/015;H01L21/304 主分类号 B24B37/015
代理机构 代理人
主权项
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