发明名称 一种晶圆浸泡装置
摘要 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域,具体地说是一种满足晶圆浸泡需求的晶圆浸泡装置,包括片盒、储液槽、底板、电动执行器、升降连杆及传片窗口,储液槽及电动执行器分别安装在底板上,片盒位于储液槽内,升降连杆的一端与电动执行器的输出端相连,另一端插入储液槽内、与片盒铰接;储液槽内的下部盛有浸泡晶片的化学液,上部的槽壁上开有供机械手将晶片送入片盒中的传片窗口;电动执行器驱动升降连杆带动片盒升降,使片盒上升到与传片窗口相对应的高度取/放晶片,或使片盒下降浸入到化学液以下浸泡晶片。本发明通过分时传片的方式,通过电动执行器驱动升降连杆带动片盒升降,实现了单片浸泡时间和取出后等待时间的均一性。
申请公布号 CN103811374B 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201210439179.1 申请日期 2012.11.06
申请人 沈阳芯源微电子设备有限公司 发明人 谷德君;张浩渊;卢继奎
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人 白振宇
主权项 一种晶圆浸泡装置,包括片盒、储液槽、电动执行器及升降连杆,其中片盒位于储液槽内,所述升降连杆的一端与电动执行器的输出端相连,另一端插入储液槽内,所述储液槽内的下部盛有浸泡晶片的化学液;其特征在于:所述储液槽(3)及电动执行器(6)分别安装在底板(4)上,该储液槽(3)上部的槽壁上开有供机械手将晶片(1)送入片盒(2)中的传片窗口(12);所述升降连杆(11)的另一端与片盒(2)铰接,所述电动执行器(6)驱动该升降连杆(11)带动片盒(2)升降,使片盒(2)上升到与所述传片窗口(12)相对应的高度取/放晶片(1),或使片盒(2)下降浸入到化学液以下浸泡晶片(1)。
地址 110168 辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号
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