以带电粒子束微影术破坏及形成使用曲线符元之图案之方法

摘要

用成形带电粒子束微影术之半导体制造的领域中，一种用于断裂或阻罩资料准备或邻近效应校正的方法和系统系被揭露，其中一串列的曲线符元投射射点会为一带电粒子束书写系统来被决定，而使该组射点能在一表面上形成一连续轨迹，可能有不同的宽度。一种使用一串列的曲线符元投射符元在一表面上形成一连续轨迹的方法亦被揭露。藉使用一串列的曲线符元投射射点在一表面上形成一连续轨迹用以制造一标线片及用以制造一基材譬如一矽晶圆的方法亦被揭露。

主权项

一种用于符元投射(CP)带电粒子束微影术之断裂或阻罩资料准备或邻近效应校正的方法，包含：输入一组要被形成于一表面上的图案；输入一组在一模板上之可用的符元投射(CP)符元，该组包含一或更多个曲线符元；决定该组可用的CP符元中之一或更多个曲线CP符元的二或更多个射点之一射点串列，其中该射点串列能够在该表面上形成一连续轨迹，该轨迹包含该组图案中之一图案的一部份；及输出该射点串列。