发明名称 透明导电性薄膜及触控面板
摘要 明之透明导电性薄膜系在折射率为1.61~1.70的基材薄膜的单面或双面依序具有折射率为1.50~1.60且每一基材薄膜单面的光学厚度为(1/4)λ之第1层、折射率为1.61~1.80之第2层、折射率为1.50以下的第3层、及折射率为1.81以上且经图型化的透明导电膜,每一基材薄膜单面之前述第1层的光学厚度与前述第2层的光学厚度的合计为(1/4)λ(但是,λ在380~780nm的范围)。
申请公布号 TWI527061 申请公布日期 2016.03.21
申请号 TW101102762 申请日期 2012.01.30
申请人 东丽薄膜先端加工股份有限公司 发明人 桐本高代志
分类号 H01B5/14(2006.01);B32B7/00(2006.01);G06F3/044(2006.01) 主分类号 H01B5/14(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项 一种透明导电性薄膜,其系在折射率为1.61~1.70的基材薄膜的单面或双面依序具有折射率为1.51~1.60且每一基材薄膜单面的光学厚度为(1/4)λ之第1层、折射率为1.61~1.80之第2层、折射率为1.50以下的第3层、及折射率为1.81以上且经图型化的透明导电膜,每一基材薄膜单面之该第2层的光学厚度与该第3层的光学厚度的合计为95~163nm的范围,该第1层的折射率(n1)、该第2层的折射率(n2)及该第3层的折射率(n3)之关系满足n2>n1>n3,且在该第1层与该第2层之间具有硬涂层,但是,λ为380~780nm。
地址 日本