发明名称 气体通入装置及溅镀设备
摘要 气体通入装置及溅镀设备,该溅镀设备适用于对基材进行溅镀,并包含一个反应腔体、一个与该基材相间隔的靶材,及一个气体通入装置。该反应腔体界定出一个可供该基材与该靶材放入的反应容室。该气体通入装置包含一个容装有制程气体的气管,及一个气流调整单元。该气管围绕界定出一个位于该基材与该靶材之间的气场区域,并包括数个分别供制程气体通入该气场区域的气孔。该气流调整单元用以调整该等气孔之其中一个的气流量。透过控制气场区域中制程气体的分布,能在基材上沉积出厚度均匀的薄膜,且不会造成靶材的浪费,相当符合经济效益。
申请公布号 TWM519143 申请公布日期 2016.03.21
申请号 TW104215815 申请日期 2015.10.02
申请人 北儒精密股份有限公司 发明人 沈俊宏;黄圣涵;陈威成;辜建烨;简谷卫
分类号 C23C14/56(2006.01) 主分类号 C23C14/56(2006.01)
代理机构 代理人 高玉骏;杨祺雄
主权项 一种气体通入装置,适用于设置在一个反应腔体内,该反应腔体内设置有一个基材,及一个与该基材相间隔的靶材,并定义一条穿过该基材与该靶材的直线,该气体通入装置包含: 一个气管,容装有制程气体,并绕着该直线围绕界定出一个位于该基材与该靶材之间的气场区域,该气管包括数个彼此间隔分布并分别供制程气体通入该气场区域的气孔;及 一个气流调整单元,设置于该气管,并用以调整该等气孔之其中一个的气流量。
地址 台南市新市区环东路二段23号