摘要 |
气体通入装置及溅镀设备,该溅镀设备适用于对基材进行溅镀,并包含一个反应腔体、一个与该基材相间隔的靶材,及一个气体通入装置。该反应腔体界定出一个可供该基材与该靶材放入的反应容室。该气体通入装置包含一个容装有制程气体的气管,及一个气流调整单元。该气管围绕界定出一个位于该基材与该靶材之间的气场区域,并包括数个分别供制程气体通入该气场区域的气孔。该气流调整单元用以调整该等气孔之其中一个的气流量。透过控制气场区域中制程气体的分布,能在基材上沉积出厚度均匀的薄膜,且不会造成靶材的浪费,相当符合经济效益。 |