发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
体装置,包含一基板、一第一井区(well)及一第二井区,形成在基板之中。第一井区具有一第一导电类型(conductivity type)。第二井区具有不同于第一导电类型之一第二导电类型。半导体装置包含具有第一导电类型之一第一重掺杂区(heavily-doped region),及具有第一导电类型之一第二重掺杂区。第一重掺杂区的一部分形成在第一井区之中。第二重掺杂区形成在第二井区之中。此装置更包含一绝缘层,绝缘层形成在第一重掺杂区与第二重掺杂区之间之基板之一通道区之上方。此装置更包含一闸极电极,形成在绝缘层之上方。此装置更包含一端点,用以耦接至欲保护之一外部电路。此装置更包含一切换电路,耦接在端点与第一重掺杂区之间,以及在端点与闸极电极之间。
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申请公布号 |
TWI527239 |
申请公布日期 |
2016.03.21 |
申请号 |
TW103112582 |
申请日期 |
2014.04.03 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
王世钰;张耀文;卢道政 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L21/22(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
祁明辉;林素华 |
主权项 |
一种半导体装置,包含:一基板;一第一井区,形成在该基板之中,该第一井区具有一第一导电类型;一第二井区,形成在该基板之中,该第二井区具有不同于该第一导电类型之一第二导电类型;一第一重掺杂区,具有该第一导电类型,该第一重掺杂区的一部分形成在该第一井区之中;一第二重掺杂区,具有该第一导电类型,且形成在该第二井区之中;一绝缘层,形成在该第一重掺杂区与该第二重掺杂区之间之该基板之一通道区之上方;一闸极电极,形成在该绝缘层之上方,该闸极电极、该绝缘层、该通道区、该第一重掺杂区及该第二重掺杂区形成一嵌入式场效电晶体;一端点,用以耦接至欲保护之一外部电路;以及一切换电路,耦接在该端点与该第一重掺杂区之间,以及在该端点与该闸极电极之间。
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |