发明名称 位置计测装置、对准装置、图案描画装置及位置计测方法
摘要 明提供一种使用能高精度地对基板相对于光束的位置进行计测的位置计测技术的位置计测装置、位置计测方法、以及对准装置及图案描画装置。本发明包括:拍摄部,在同一视野内,对于穿过基板中对光束具有透过性的第1透过部的光束、及第1透过部进行拍摄;及位置导出部,根据拍摄部所拍摄的图像来求出基板的位置。
申请公布号 TWI526793 申请公布日期 2016.03.21
申请号 TW103127700 申请日期 2014.08.13
申请人 斯克林集团公司 发明人 中泽喜之;中西健二;武内诚
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗;郑婷文;詹富闵
主权项 一种位置计测装置,对基板相对于从光学头射出的光束的位置进行计测,所述位置计测装置包括:拍摄部,在同一视野内,对于穿过所述基板中对所述光束具有透过性的第1透过部的所述光束、及所述第1透过部进行拍摄;及位置导出部,根据由所述拍摄部所拍摄的图像来求出所述基板相对于所述光束的位置,其中,所述第1透过部具有在所述光束的行进方向上贯穿所述基板而设的第1贯穿孔,并且所述光束的有效束径小于所述第1透过部的所述第1贯穿孔的内径,且所述第1贯穿孔的内径小于所述拍摄部的视野。
地址 日本