レチクルステージ環境におけるガス流れ最適化

摘要

【課題】リソグラフィ装置のパターニングデバイスまわりのガス流れを制御することによってオーバレイ誤差を低減するためのシステムを開示する。【解決手段】リソグラフィ装置は放射ビームを調整するよう構成された照明系を含む。リソグラフィ装置はパターニングデバイスを支持するよう構成されうる支持構造を備える可動ステージをさらに含む。パターニングデバイスは放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するよう構成されてもよい。また、リソグラフィ装置は可動ステージ（４０１）と投影系（２０８）との間に位置するプレート（４１０）を備える。プレートは第１側壁（４１１ａ）及び第２側壁（４１１ｂ）を備える開口部（４１１）を含む。プレートは照明系の光軸と実質的に垂直なガス流れパターン（４２４）を可動ステージと投影系との間の領域に提供するよう構成されてもよい。【選択図】図４Ａ