发明名称 PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
摘要 i 선에 높은 광 감도를 갖고, 내열 안정성이 우수하고, 소수성 재료에 대한 용해성이 우수한 비이온계 광산 발생제를 제공한다. 본 발명은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 비이온계 광산 발생제 (A) 이다.[식 (1) 중, R1, R2 는 서로 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기 혹은 탄소수 1 ∼ 18 의 플루오로알킬기, 탄소수 2 ∼ 18 의 알케닐기, 탄소수 2 ∼ 18 의 알키닐기, 탄소수 6 ∼ 18 의 아릴기, 실릴기 등을 나타내고, m, n 은 각각 R1, R2 의 개수를 나타내고, 그 수는 0 ∼ 3 의 정수이고, R1 과 R2 의 합계 개수 (m + n) 는 1 ∼ 6 의 정수이다. m 개의 R1 및 n 개의 R2 는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. R3 은 탄소수 1 ∼ 18 의 탄화수소기 (수소의 일부 또는 전부가 불소로 치환되어 있어도 된다) 를 나타낸다.]
申请公布号 KR20160030210(A) 申请公布日期 2016.03.16
申请号 KR20167002554 申请日期 2014.07.03
申请人 SAN-APRO LIMITED 发明人 IKEDA TAKUYA;KIMURA HIDEKI;SHIBAGAKI TOMOYUKI;OKA MASAAKI
分类号 G03F7/004;C07D221/14;C08K5/42;G03F7/038 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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