多重带电粒子束描绘方法及多重带电粒子束描绘装置

摘要

明一态样之多重带电粒子束描绘方法，其特征为，具备：以射束偏向来开始追踪控制，以使多重带电粒子束的各射束的描绘位置统一地一同追随平台之移动，于进行追踪控制的同时，对各射束的描绘位置照射多重带电粒子束当中和ON射束的各者相对应之射束的工程；持续追踪控制的同时，在用于追踪控制之射束偏向之外，另行将多重带电粒子束偏向藉此将各射束的描绘位置移位至下一各射束的描绘位置的工程；持续追踪控制的同时，对已被移位之各射束的描绘位置，照射多重带电粒子束当中和ON射束的各者相对应之射束的工程；持续追踪控制的同时，对至少被移位一次以上之后的各射束的描绘位置照射各个相对应之射束后，将追踪控制用的射束偏向予以重置，藉此使追踪位置朝和平台移动方向相反之方向返回的工程；将从追踪控制开始至重置为止之各工程订为一个群
组，并将群组反覆事先设定好的次数，藉此使其完成规定区域之描绘，该次数的群组当中，至少一次的群组当中从追踪开始至重置为止之追踪时间，系比其他群组中的追踪时间还长。

主权项

一种多重带电粒子束描绘方法，其特征为：以多重带电粒子束的一齐的射束偏向来开始追踪控制，以使前述多重带电粒子束追随平台之移动，于进行前述追踪控制的同时，对前述各射束的描绘位置照射多重带电粒子束当中和ON射束的各者相对应之射束，持续前述追踪控制的同时，在用于前述追踪控制之射束偏向之外，另行藉由前述多重带电粒子束的一齐的射束偏向，将前述各射束的描绘位置移位至下一各射束的描绘位置，持续前述追踪控制的同时，对已被移位之各射束的描绘位置，照射多重带电粒子束当中和ON射束的各者相对应之射束，持续前述追踪控制的同时，对至少被移位一次以上之后的各射束的描绘位置照射各个相对应之射束后，将前述追踪控制用的射束偏向予以重置，藉此使追踪位置朝和平台移动方向相反之方向返回，将从前述追踪控制开始至重置为止之前述照射、及移位、及移位后做前述照射、及朝相反方向返回，订为一个群组，并将前述群组反覆事先设定好的次数，藉此使其完成规定区域之描绘，前述次数的群组当中，至少一次的群组当中从追踪开始至重置为止之追踪时间，系比其他群组中的追踪时间还长。