发明名称 |
一种自支撑PEDOT-PSS薄膜及其制备方法与应用 |
摘要 |
本发明公开了一种自支撑PEDOT-PSS薄膜,包括质量比为3:7~15:2的PEDOT以及PSS,所述PEDOT-PSS薄膜的厚度为1μm~50μm,方块电阻为0.10Ω/sq~120Ω/sq,电导率为210S/cm~1827S/cm。本发明还公开了该PEDOT-PSS薄膜的制备方法以及在光电子器件的电极中的应用。本发明制备所得的PEDOT-PSS薄膜具有良好的自支撑性能以及导电性能,在光电子器件上具有广泛的应用前景。 |
申请公布号 |
CN105405977A |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
CN201510715701.8 |
申请日期 |
2015.10.29 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
周印华;李在房;葛茹;覃飞;刘铁峰 |
分类号 |
H01L51/44(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I;H01G11/48(2013.01)I;H01G11/86(2013.01)I |
主分类号 |
H01L51/44(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
朱仁玲 |
主权项 |
一种自支撑PEDOT‑PSS薄膜,其特征在于,包括质量比为3:7~15:2的PEDOT以及PSS,所述PEDOT‑PSS薄膜的厚度为1μm~50μm,方块电阻为0.10Ω/sq~120Ω/sq,电导率为210S/cm~1827S/cm。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |