发明名称 |
导电奈米线之层的制备 |
摘要 |
明提供用于制备导电薄膜之方法及装置。在一种布置中,将具有不同平均纵横比之奈米线组合物混合在一起且作为层施加在基板上。在其他布置中,处理单一奈米线组合物以增加纵横比之方差,且将该经处理之组合物作为层施加在基板上。由此施加之该等层提供经改良之电导率对透明度之平衡且预期提供平面内电导率之经改良之各向同性。
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申请公布号 |
TW201611040 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
TW104116121 |
申请日期 |
2015.05.20 |
申请人 |
万佳雷射有限公司 |
发明人 |
达顿 艾伦 布莱恩;萨多 莱斯特 塔库;朗基 马修;隆斯毕 菲利普 汤玛士 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01);H01B1/22(2006.01);H01B5/14(2006.01);B05D7/24(2006.01);B05D5/12(2006.01);B02C19/18(2006.01);G02F1/1343(2006.01);G06F3/041(2006.01);H01L31/18(2006.01) |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种制备导电薄膜之方法,其包含:提供奈米线组合物,其中每一奈米线具有定义为该奈米线之长度对横截面直径之比率之纵横比;处理该奈米线组合物,以使该组合物中纵横比分布之方差增加至少1.5倍;及将具有该增加方差之该奈米线组合物施加至基板以在该基板上形成奈米线之层。
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地址 |
英国 |