| 发明名称 | 一种钨研磨用CMP浆料组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包含研磨剂和研磨促进剂的钨研磨用CMP浆料组合物，上述研磨剂包含分散在超纯水中的胶体硅,上述研磨促进剂包含过氧化氢水溶液、过硫酸铵及硝酸铁，上述浆料组合物不发生浆料变色问题，蚀刻选择比优异，可适用于CMP工艺。 | ||
| 申请公布号 | CN103228756B | 申请公布日期 | 2016.03.16 |
| 申请号 | CN201280001134.4 | 申请日期 | 2012.07.06 |
| 申请人 | 中小企业银行 | 发明人 | 朴在勤;朴珍亨;林宰亨;曹宗煐;崔浩;黃熹燮 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 谢顺星;张晶 |
| 主权项 | 一种钨研磨用CMP浆料组合物，其为包含研磨剂和研磨促进剂的钨研磨用CMP浆料组合物，其通过降低氮化钛的研磨率和增加钨的研磨率来抑制变色和控制蚀刻选择比，所述研磨剂包含分散在超纯水中的胶体硅，所述研磨促进剂包含0.5～2重量％的过氧化氢水溶液、0.05～1重量％的过硫酸铵及0.01～0.1重量％的硝酸铁，且其中钨与氮化钛的蚀刻选择比为1:1.5～2，钨与氧化膜的蚀刻选择比为2:1或以上，其中随着所述过硫酸铵的浓度增加，所述氮化钛的研磨率降低并且所述钨的研磨率增加。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||