| 发明名称 |
用以处理基板上之材料的设备及用以量测于基板上处理之材料的光学性质的方法 |
| 摘要 |
本揭露之一方面，一种用以处理一基板(15)上之一材料之设备(40)系提供。此设备(40)包括一真空腔室以及一量测配置，量测配置系装配以用以量测基板及/或于基板上处理之材料的一或多个光学性质，量测配置包括至少一球结构，位于真空腔室内。 |
| 申请公布号 |
TW201610413 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104115566 |
申请日期 |
2015.05.15 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
史奇罗德 臼卷;罗斯 韩斯乔治 |
| 分类号 |
G01N21/17(2006.01);G01N21/55(2014.01);G01N21/59(2006.01) |
主分类号 |
G01N21/17(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
祁明辉;林素华;涂绮玲 |
| 主权项 |
一种用以处理一基板上之一材料的设备，包括： 一真空腔室：以及 一量测配置，装配以用以量测该基板及于该基板上处理之该材料的至少一者的一或多个光学性质，该量测配置包括至少一球结构，位于该真空腔室内。 |
| 地址 |
美国 |
