| 发明名称 |
生成薄无机膜之方法 |
| 摘要 |
明系关于基板上生成薄无机膜之方法之领域。更具体而言，本发明系关于一种方法，其包含使通式(I)之化合物变为气态或雾态，
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| 申请公布号 |
TW201610212 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104125077 |
申请日期 |
2015.08.03 |
| 申请人 |
巴斯夫欧洲公司 |
发明人 |
史陶曼 尤莉亚;帕西罗 罗扣;夏博 托玛士;席勒 安德 克斯汀;罗福勒 丹尼尔;威尔摩 哈根;艾可迈尔 菲力克斯;布拉斯柏 佛罗里昂 |
| 分类号 |
C23C16/44(2006.01);C23C16/22(2006.01);H01L21/314(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种方法，其包含使通式(I)之化合物变为气态或雾态，
及将该通式(I)之化合物自该气态或雾态沈积至固体基板上，其中R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18彼此独立地为氢、烷基、芳基或三烷基矽烷基，R21、R22、R23、R24彼此独立地为烷基、芳基或三烷基矽烷基，n为1或2，M为金属或半金属，X为与M配位之配位体，且m为0至3之整数。
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| 地址 |
德国 |
