发明名称 |
树脂前驱物及含有其之树脂组合物、聚醯亚胺树脂膜、树脂薄膜及其制造方法 |
摘要 |
明提供一种与玻璃基板之接着性优异,于雷射剥离时不会产生微粒,且包含聚醯亚胺前驱物之树脂组合物。本发明之树脂组合物系含有(a)聚醯亚胺前驱物、(b)有机溶剂、及(d)烷氧基矽烷化合物者,且于将树脂组合物涂布于支持体之表面后,将(a)聚醯亚胺前驱物醯亚胺化而获得之聚醯亚胺所表现出之与支持体之残留应力为-5MPa以上且10MPa以下,并且(d)烷氧基矽烷化合物于制成0.001质量%之NMP溶液时之308nm的吸光度于溶液之厚度为1cm时为0.1以上且0.5以下。
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申请公布号 |
TW201610021 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
TW104122972 |
申请日期 |
2015.07.15 |
申请人 |
旭化成电子材料股份有限公司 |
发明人 |
宫本佳季;奥田敏章;米谷昌树;饭塚康史;金田隆行 |
分类号 |
C09D179/08(2006.01);C09D7/12(2006.01);C08L79/08(2006.01);C08K5/5455(2006.01);C08J5/18(2006.01);B32B27/34(2006.01);G09F9/00(2006.01) |
主分类号 |
C09D179/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种树脂组合物,其系含有(a)聚醯亚胺前驱物、(b)有机溶剂、及(d)烷氧基矽烷化合物者,且于将上述树脂组合物涂布于支持体之表面后,将上述(a)聚醯亚胺前驱物醯亚胺化而获得之聚醯亚胺所表现出之与支持体之残留应力为-5MPa以上且10MPa以下,并且上述(d)烷氧基矽烷化合物于制成0.001质量%之NMP溶液时之308nm的吸光度于溶液之厚度为1cm时为0.1以上且0.5以下。
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地址 |
日本 |