| 发明名称 |
光阻底层膜形成用组成物 |
| 摘要 |
明之课题为，提供可形成具有耐蚀性，且具有凹部及/或凸部之表面填埋性优良的光阻底层膜之新颖的光阻底层膜形成用组成物。
其解决方法为，含有具有下述式(1)或式(2)：
(式中，X表示伸芳基，n表示1或2，R1、R2、R3及R4表示各自独立的氢原子、羟基、碳原子数1至3之烷基或苯基)所表示之结构单位的聚合物，及溶剂之光阻底层膜形成用组成物。
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| 申请公布号 |
TW201609938 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104116676 |
申请日期 |
2015.05.25 |
| 申请人 |
日产化学工业股份有限公司 |
发明人 |
西卷裕和;桥本圭佑;远藤贵文;坂本力丸 |
| 分类号 |
C08L61/04(2006.01);G03F7/11(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C08L61/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种光阻底层膜形成用组成物，其为含有具有下述式(1)或式(2)所表示之结构单位的聚合物，及溶剂
(式中，X表示伸芳基，n表示1或2，R1、R2、R3及R4表示各自独立的氢原子、羟基、碳原子数1至3之烷基或苯基)。
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| 地址 |
日本 |
