| 发明名称 |
使用雷射与气体流的积层制造 |
| 摘要 |
制造系统包含：一平台；一供给材料分配器设备，该供给材料分配器设备经配置以输送一层供给材料至该平台上；一雷射来源，该雷射来源经配置以在使用该积层制造系统期间产生一雷射光束；一控制器，该控制器经配置以引导该雷射光束至平台上一电脑辅助设计程式所规定的位置处以造成该供给材料熔融；一气体来源，该气体来源经配置以供应气体；及一喷嘴，该喷嘴经配置以加速及引导该气体至该平台上与该雷射光束实质相同的位置。
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| 申请公布号 |
TW201609431 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104123247 |
申请日期 |
2015.07.17 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
拉马斯瓦米卡提克;沙布蓝尼安纳萨Ｋ;克利许南卡锡拉曼;孙语南;伯瑞罗斯基汤玛斯Ｂ;罗兰德克里斯托弗Ａ;奈马尼史林尼法斯Ｄ;史林尼法森史瓦米奈森;亚维格赛蒙;叶怡利;黄福Ｔ |
| 分类号 |
B33Y30/00(2015.01);B33Y10/00(2015.01) |
主分类号 |
B33Y30/00(2015.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
一种积层制造系统，包括：一平台；一供给材料分配器设备，该供给材料分配器设备经配置以输送一层供给材料覆盖该平台；一雷射来源，该雷射来源经配置以产生一雷射光束；一控制器，该控制器经配置以引导该雷射光束在储存于一电脑可读取媒体中的资料所规定的位置处熔融该供给材料；一气体来源，该气体来源经配置以供应气体；及一喷嘴，该喷嘴经配置以加速及引导该气体至与该雷射光束实质相同的位置。
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| 地址 |
美国 |
