用于启用轴对称以用于改进的流动传导性和均匀性的在线去耦合等离子体源腔室硬件设计

摘要

本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。

主权项

一种用于处理基板的设备，包括：腔室外壳，所述腔室外壳限定具有中心轴的处理容积，其中所述腔室外壳具有穿过所述腔室外壳的底部而形成的开口，且所述开口关于所述中心轴是基本上对称的；基板支撑组件，所述基板支撑组件设置于所述处理容积中，其中所述基板支撑组件具有支撑表面，所述支撑表面用于将基板定位成基本上对称于所述中心轴，且所述基板支撑组件被附接至所述腔室外壳的侧壁；气体分配组件，所述气体分配组件被定位成在所述处理容积中朝向所述基板支撑组件的所述支撑表面递送一个或多个处理气体；以及闸阀，所述闸阀耦接至所述腔室外壳的开口。