一种高分散性光敏石墨烯及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高分散性光敏石墨烯，该光敏石墨烯的制备方法包括如下步骤：(1)氧化；(2)氨基化；(3)还原；(4)半封端；(5)光敏化。本发明光敏石墨烯具有高分散性，本发明方法在解决石墨烯易团聚问题的同时，保护了光敏双键，并且兼具一定电学性能，可广泛应用于光固化材料领域。

主权项

一种高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述光敏石墨烯通过如下步骤制得：(1)氧化，采用改进的Hummers法对石墨烯粉进行氧化处理，制得氧化石墨烯；(2)氨基化，将步骤(1)制得的氧化石墨烯加入反应溶剂中，60℃下滴加3‑氨丙基三乙氧基硅烷，搅拌反应6～12h，随后洗涤、干燥，得到氨基化氧化石墨烯；(3)还原，将步骤(2)制得的氨基化氧化石墨烯分散还原溶剂中，并加入还原剂，80℃条件下搅拌反应12～48h，洗涤、干燥，制得氨基化石墨烯；(4)半封端，将异佛尔酮二异氰酸酯加入到反应溶剂中，升温50℃，滴加丙烯酸‑2‑羟乙酯、催化剂、阻聚剂的混合物，控制温度为50℃，搅拌反应，制得半封端异氟尔酮二异氰酸酯；(5)光敏化，将步骤(3)制得的氨基化石墨烯分散在反应溶剂中，加入步骤(4)制得的半封端异氟尔酮二异氰酸酯，10～40℃下，搅拌反应20～24h，洗涤、干燥，制得所述光敏石墨烯。