发明名称 一种陶瓷基复合材料快速制备方法
摘要 本发明涉及一种陶瓷基复合材料快速制备方法,在室温对CVI后的C/SiC、SiC/SiC半成品复合材料的聚合物进行浸渍,并固化以实现对SiC基体中微裂纹的初步封填。在CVI工艺的升温过程中进行SiBCN先驱体的裂解,在基体沉积过程中完成SiBCN先驱体的增材裂解和陶瓷化,以抑制自愈合层收缩,并完成对SiC基体中微裂纹的最终封填,减少自愈合层和SiC基体中的孔洞和裂纹。本发明得到的陶瓷基复合材料内部空洞和裂纹被SiBCN填补,提高了材料致密性,同时提高了复合材料在高温水氧耦合环境下的使用寿命。
申请公布号 CN105399452A 申请公布日期 2016.03.16
申请号 CN201510724406.9 申请日期 2015.10.29
申请人 西北工业大学 发明人 栾新刚;王建强;成来飞
分类号 C04B41/87(2006.01)I;C04B35/565(2006.01)I 主分类号 C04B41/87(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 王鲜凯
主权项 一种陶瓷基复合材料快速制备方法,其特征在于步骤如下:步骤1:采用聚合物聚硅硼氮烷PSNB或聚硼硅氮烷PBSZ在室温下对CVI工艺沉积过的C/SiC、SiC/SiC半成品复合材料进行浸渍,在120~250℃下固化2~5个小时,实现对SiC基体中微裂纹的初步封填;步骤2:然后采用CVI工艺制备陶瓷基复合材料,使得在升温过程中进行SiBCN先驱体的裂解,在基体沉积过程中完成SiBCN先驱体的增材裂解和陶瓷化;CVI法工艺条件为:以MTS作为先驱体,氢气作为载气和稀释气体,氩气作为保护气体;总气压为0.1~10kPa,沉积温度为800‑1200℃,沉积时间为15~240h;所述MTS、氢气和氩气的比例为MTS:H<sub>2</sub>:Ar为1:5~25:5~20;所述MTS为CH<sub>3</sub>SiCl<sub>3</sub>。
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